鉬管靶供應(yīng)商

鉬管靶(鎢管靶)

      應(yīng)用原理:濺射是一種先進(jìn)的薄膜材料制備技術(shù)，它利用離子源

產(chǎn)生的離子，在真空中加速聚集成高速離子流，轟擊固體表面，離子

和固體表面的原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開(kāi)靶材并沉積在基材表面，從而形成納米或微米薄膜。上述 用濺射法沉積薄膜的被

轟擊的固體，稱為濺射靶材。

      應(yīng)用領(lǐng)域:純鉬或鉬合金可以在各類基材上形成薄膜。因此廣泛

應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)。如目前廣泛應(yīng)用的TFT-LCD(薄膜半導(dǎo)體管-

液晶顯示器)、等離子顯示屏、無(wú)機(jī)發(fā)光二極管顯示器、場(chǎng)發(fā)射顯示器、薄膜太陽(yáng)能光伏電池、傳感器、半導(dǎo)體裝置和具有可調(diào)諧功函數(shù)

CMOS (互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體)的場(chǎng)效應(yīng)晶體管柵極等。